[00338632]一种PECVD镀膜系统
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技术详细介绍
本发明公开了一种PECVD镀膜系统，包括工艺系统、装卸系统及阀门机构；工艺系统包括工艺腔体及工艺反应室；工艺反应室设置在工艺腔体内；装卸系统包括装卸腔体及传输机械手；传输机械手滑动设置在装卸腔体与工艺腔体之间；阀门机构设置在工艺腔体与装卸腔体之间，用于工艺腔体与装卸腔体之间的连通或隔离，通过阀门机构使得传输机械手可以在腔体之间往复运动，同时保证了腔体之间的互相连通以及真空环境的相互独立；装卸腔体同时具备装载腔和中转传输腔的功能，能满足基片上下料以及在腔体之间相互传输的功能；由于只有两个腔体，结构更为简单，使得设备成本低，安装维护简单方便，传输结构简单便易，对机械精度要求低。