[00237647]一种巨红移高吸收钒镓共掺杂氧化钛薄膜的制备方法
交易价格:
面议
所属行业:
其他
类型:
发明专利
技术成熟度:
正在研发
专利所属地:中国
专利号:CN201310031537.X
交易方式:
技术转让
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联系人:
四川钒钛产业技术研究院
进入空间
所在地:四川攀枝花市
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-
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对所交付的所有资料进行保密
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技术详细介绍
本发明提出了一种巨红移高吸收钒镓共掺杂氧化钛纳米薄膜的制备方法,其工艺步骤为:首先将掺钒0.1~5wt%和掺镓0.1~2.5wt%的二氧化钛制备成靶材。然后采用脉冲激光烧蚀(PLA)的方法制备掺杂氧化钛纳米薄膜,调节激光的能量为200-250mJ,激光频率为5HZ,在沉积过程中,通过调节沉积时间、溅射气压等参数来调节薄膜的厚度和质量。沉积完成后,将样品取出放入快速退火炉中进行高温退火。通过调整退火温度,可以将光吸收带边红移到1.6~2.3eV。掺杂后的薄膜光响应范围可覆盖300-1200nm,涵盖了可见光和近红外光,且与太阳光谱匹配性高,可吸收太阳光辐射总能量的90%。本发明制备工艺简单,易操作,可控性高,可应用于光催化降解污染物及光伏器件的吸收层。
本发明提出了一种巨红移高吸收钒镓共掺杂氧化钛纳米薄膜的制备方法,其工艺步骤为:首先将掺钒0.1~5wt%和掺镓0.1~2.5wt%的二氧化钛制备成靶材。然后采用脉冲激光烧蚀(PLA)的方法制备掺杂氧化钛纳米薄膜,调节激光的能量为200-250mJ,激光频率为5HZ,在沉积过程中,通过调节沉积时间、溅射气压等参数来调节薄膜的厚度和质量。沉积完成后,将样品取出放入快速退火炉中进行高温退火。通过调整退火温度,可以将光吸收带边红移到1.6~2.3eV。掺杂后的薄膜光响应范围可覆盖300-1200nm,涵盖了可见光和近红外光,且与太阳光谱匹配性高,可吸收太阳光辐射总能量的90%。本发明制备工艺简单,易操作,可控性高,可应用于光催化降解污染物及光伏器件的吸收层。