[00973175]提高硅烷、磷烷、砷烷纯度的研究(气相色谱法测定痕量杂质的技术)
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技术详细介绍
该技术用于电子工业中高纯硅烷、磷烷、砷烷中痕量杂质Ｏ＜，２＞、Ｎ＜，２＞、ＣＯ、ＣＯ＜，２＞、ＣＨ＜，４＞、Ｈ＜，２＞Ｏ、Ｈ＜，２＞的质量检测及生产监控。应用的原理为气相色谱法。其技术关键是：１．新研制成功消除烷类的薄膜填充柱，克服了高纯烷类对色谱系统的污染；２．建立了专用色谱流程；３．新筛选出特效色谱柱；４．选择并开发了高灵敏度检测手段。技术指标为：测Ｈ＜，２＞Ｏ灵敏度０．０４×１０＜’－６＞ｇ／ｇ／ｍｍ，精密度２．７％；测Ｏ＜，２＞，Ｎ＜，２＞灵敏度０．１６×１０＜’－６＞ｇ／ｇ／ｍｍ，精密度Ｏ＜，２＞４．２％，Ｎ＜２＞２．４％；测ＣＯ，ＣＯ＜，２＞，ＣＨ＜，４＞灵敏度分别为０．２５×１０＜’－６＞ｇ／ｇ／ｍｍ，０．２８×１０＜’－６＞ｇ／ｇ／ｍｍ，０．１４×１０＜’－６＞ｇ／ｇ／ｍｍ，精密度分别为９．６％，２．９％，１．７％；测Ｈ＜，２＞灵敏度为４．８×１０＜’－６＞ｇ／ｇ／ｍｍ。