[00902650]一种用于光电催化降解污染物的WO-3/CdS/MoS-2复合薄膜的制备方法
交易价格:
面议
所属行业:
专用化学
类型:
发明专利
技术成熟度:
通过小试
专利所属地:中国
专利号:CN202110344210.2
交易方式:
其他
联系人:
所在地:天津天津市
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-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
本发明公开一种用于光电催化降解污染物的WO-3/CdS/MoS-2复合薄膜的制备方法。该方法首先配制WO-3生长溶液,采用水热法经过退火处理在FTO导电玻璃上生长WO-3纳米棒薄膜,然后以WO-3纳米棒为基底,采用水热法在较低温度下负载一层CdS纳米球,之后采用水热法在WO-3/CdS纳米结构上负载一层片层状的MoS-2纳米薄膜,最终得到WO-3/CdS/MoS-2复合薄膜。所制备的复合薄膜提升了WO-3的可见光吸收,促进了光电催化性能的提高,制备方法简单易操作,整体成本低廉。
本发明公开一种用于光电催化降解污染物的WO-3/CdS/MoS-2复合薄膜的制备方法。该方法首先配制WO-3生长溶液,采用水热法经过退火处理在FTO导电玻璃上生长WO-3纳米棒薄膜,然后以WO-3纳米棒为基底,采用水热法在较低温度下负载一层CdS纳米球,之后采用水热法在WO-3/CdS纳米结构上负载一层片层状的MoS-2纳米薄膜,最终得到WO-3/CdS/MoS-2复合薄膜。所制备的复合薄膜提升了WO-3的可见光吸收,促进了光电催化性能的提高,制备方法简单易操作,整体成本低廉。