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[00902613]一种无模板激光纳米原位图形化设备

交易价格: 面议

所属行业: 专用化学

类型: 实用新型专利

技术成熟度: 通过小试

专利所属地:中国

专利号:2020216647205

交易方式: 其他

联系人:

所在地:天津天津市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述
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技术详细介绍

本实用新型提供一种无模板激光纳米原位图形化设备,计算机分别与激光作用机构、丝网刮膜机构、衬底趋近机构、激光对准机构相连接,激光作用机构包括激光器、激光调节组件和X‑Y平面激光移动组件,激光器通过激光调节组件、X‑Y平面激光移动组件与计算机相连,计算机控制激光器的激光功率、光斑大小、自动聚焦调节并实现对丝网刮膜机构在X‑Y平面扫描移动。本实用新型的有益效果:工艺流程简单,易于操作,所适用材料和衬底范围广;免除掩膜或模具制备过程、压缩产品周期,提升了加工精度降低工艺成本;在新品的快速开发、多品种小批量产品制备以及满足各种非标准器件需求方面具有明显优势,应用前景广阔。
本实用新型提供一种无模板激光纳米原位图形化设备,计算机分别与激光作用机构、丝网刮膜机构、衬底趋近机构、激光对准机构相连接,激光作用机构包括激光器、激光调节组件和X‑Y平面激光移动组件,激光器通过激光调节组件、X‑Y平面激光移动组件与计算机相连,计算机控制激光器的激光功率、光斑大小、自动聚焦调节并实现对丝网刮膜机构在X‑Y平面扫描移动。本实用新型的有益效果:工艺流程简单,易于操作,所适用材料和衬底范围广;免除掩膜或模具制备过程、压缩产品周期,提升了加工精度降低工艺成本;在新品的快速开发、多品种小批量产品制备以及满足各种非标准器件需求方面具有明显优势,应用前景广阔。

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