[00902400]一种CdS-PDA-RGO光电催化材料的制备方法及在降解有机污染物中的应用
交易价格:
面议
所属行业:
专用化学
类型:
发明专利
技术成熟度:
正在研发
专利所属地:中国
专利号:CN202110344209.X
交易方式:
其他
联系人:
所在地:天津天津市
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技术详细介绍
一种CdS-PDA-RGO光电催化材料的制备方法及在降解有机污染物中的应用。该方法首先采用硝酸镉、硫脲和谷胱甘肽混合溶液配制CdS前驱体反应液,随后利用水热反应制得CdS薄膜;然后将CdS薄膜浸入三羟甲基氨基甲烷和多巴胺溶液中,室温下制得的聚多巴胺(PDA)有机半导体聚合物负载到CdS薄膜上;最后将还原氧化石墨烯(RGO)在水中超声分散并通过电沉积法将RGO接枝在CdS-PDA薄膜表层,得到CdS-PDA-RGO光电催化材料。所制备的CdS-PDA-RGO光电催化剂制备过程简单、反应条件温和、无毒无污染,在1.1V外加偏压和模拟太阳光照射下,5h内对亚甲基蓝的降解率为96%,相较于未改性的CdS降解率提高了1.75倍。
一种CdS-PDA-RGO光电催化材料的制备方法及在降解有机污染物中的应用。该方法首先采用硝酸镉、硫脲和谷胱甘肽混合溶液配制CdS前驱体反应液,随后利用水热反应制得CdS薄膜;然后将CdS薄膜浸入三羟甲基氨基甲烷和多巴胺溶液中,室温下制得的聚多巴胺(PDA)有机半导体聚合物负载到CdS薄膜上;最后将还原氧化石墨烯(RGO)在水中超声分散并通过电沉积法将RGO接枝在CdS-PDA薄膜表层,得到CdS-PDA-RGO光电催化材料。所制备的CdS-PDA-RGO光电催化剂制备过程简单、反应条件温和、无毒无污染,在1.1V外加偏压和模拟太阳光照射下,5h内对亚甲基蓝的降解率为96%,相较于未改性的CdS降解率提高了1.75倍。