[00826961]纳米金刚石薄膜的n型掺杂及薄膜低温合成的动力学研究
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技术详细介绍
该研究采用辉光等离子体辅助EACVD技术，制备出了高品质的n型金刚石薄膜，通过对薄膜力学特性的研究，得到了制备较小残余内应力的掺硫n型金刚石薄膜的优化实验条件；系统研究了薄膜的电学性质与掺硫浓度的关系，在低温硅衬底上合成了较高载流子迁移率的掺硫n型金刚石薄膜；该研究不仅对于制备满足器件要求的高品质金刚石薄膜具有重要的实际意义，而且对建立完善的CVD薄膜合成理论具有重要的指导作用，该研究居国际先进水平。