[00331648]一种纳米压印光刻胶及其制备方法
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技术详细介绍
一种纳米压印光刻胶及其制备方法；其中，纳米压印光刻胶含有如下重量百分比的组分：有机小分子溶剂65～97％，树脂1～30％，氟化石墨及其衍生物0.01～5％，表面活性剂0.01～5％和添加剂0～1％。所述的纳米压印光刻胶中添加了氟化石墨及其衍生物，因氟化石墨及其衍生物具有低表面能，从而解决了传统高表面能光刻胶与模板之间粘结力过大而导致的脱模中发生的图形缺陷，模板损坏等问题。