联系人:殷晓强
所在地:北京北京市
原创性开发出国际领先的通用金属材料或器件室温制备技术,产物晶粒细小(晶粒尺寸??6nm),致密度接近100%,电学与光学性能极为优异。
技术特色和优势为:
(1)无需加热、保护气氛等,能耗低、排放少,可大幅降低制备成本,节能环保。
(2)通过光照液相金属前体直接产生金属,制备流程短,工艺仪器简单。
(3)微观组织高度细化,致密、产品表面平滑度高,电学与光学性能接近理论值。
(4)可用于多种金属材料,或器件室温成型,不受材料熔点限制。
(5)可控制金属材料形貌,一步实现材料制备与器件加工。
(6)兼容多种基底,可用于制备金属基高分子复合材料等,如柔性电极。
市场分析
主要适用于电子器件、精密元件、耐磨耐蚀涂层加工及高新材料研发。可用于金属涂层制备、精密加工、电子元件、功能材料、光学增材制造、原型产品试制等。
已有应用情况
已成功制备多种金属材料,包括贵金属、高熔点、复杂形状金属及器件等。
产业化成本效益分析
所需生产条件均为常规工业设备及环境支撑,设备投资约50万/合成平台。单平台理论年产量(以电极计)约1200m2,或可用于增材制造法制备金属块体约1m3o该技术适用范围广泛,尤其是高端产品成型加工,预期1-2年即可回收全部投资。