[00328262]硅微通道板及相关器件
联系人：朱立峰
所在地：上海上海市
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技术详细介绍
利用自行开发的计算机控制的专用电化学刻蚀平台，结合微电子的光刻、氧化工艺，和各向异性腐蚀，制备硅微通道板并可以实现规模化生产，利用该材料制作出可以实现紫外图像探测的硅微通道板图像探测器、新型化学-生物传感器（如葡萄糖、乙醇）和超级电容器。本大学信息学院自行研制硅微通道板的电化学刻蚀制备技术实现硅片均匀电化学刻蚀，并实现刻蚀的硅微通道层与衬底材料的自动分离。实现硅微通道板材料的大面积生长，并开发出激光切割工艺。解决硅微通道板氧化过程中的形变问题。使用新型打拿极材料实现电子倍增。目前硅片的加工尺寸为四英寸（由工艺线决定），硅微通道板可以为小于80mm的任意尺寸。硅微通道板的内部尺寸主要为4微米周期、6微米周期或10微米周期，呈正方分布，并可实现斜7度微通道板刻蚀，深宽比大于40。可以根据需要定做大于2微米的合适尺寸，但分布主要为正方分布（这由晶向决定）。已应用领域：基于硅微通道板的新型生化探测器、 基于硅微通道板的超级电容器。