技术详细介绍
本发明公开了一种双辉渗金属源极辅助阴极筒，属于离子渗金属辅助阴极技术领域。
一种双辉渗金属源极辅助阴极筒，包括呈筒身和基座，所述筒身设置在基座上端；所述筒身上设有呈圆周阵列的锥形小孔，所述锥形小孔较大一端位于筒身外侧；所述基座为中空结构，且基座和筒身之间隔有底盘；所述底盘上位于筒身一侧设有凹槽，且围绕该凹槽还设有若干的通孔。
本发明提供能够防止源极熔融而造成的装置报废，保证渗金属均匀和实现多元、多物理形态的双辉渗金属。
本发明公开了一种双辉渗金属源极辅助阴极筒，属于离子渗金属辅助阴极技术领域。
一种双辉渗金属源极辅助阴极筒，包括呈筒身和基座，所述筒身设置在基座上端；所述筒身上设有呈圆周阵列的锥形小孔，所述锥形小孔较大一端位于筒身外侧；所述基座为中空结构，且基座和筒身之间隔有底盘；所述底盘上位于筒身一侧设有凹槽，且围绕该凹槽还设有若干的通孔。
本发明提供能够防止源极熔融而造成的装置报废，保证渗金属均匀和实现多元、多物理形态的双辉渗金属。