[00284843]具有拉曼增强性质的一维、二维或三维纳米间隙阵列及其制备方法
交易价格：
面议
所属行业：
光学仪器
类型：
发明专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN201510956043.1
交易方式：
技术转让
技术转让
技术入股
联系人：
吉林大学
进入空间
所在地：吉林长春市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
摘要：一种具有拉曼增强性质的一维至三维纳米间隙阵列及其制备方法，属于材料科学领域。本方法涉及到纳米切割技术、物理气相沉积技术以及一些光刻和刻蚀方面的技术。整个过程操作简便，过程低耗清洁，可控性高。通过控制沉积间隔层的厚度，可以制备一系列不同尺寸的一维纳米间隙。结合光刻技术，可以制备具有高集成性的二维纳米间隙阵列，提高器件的制备效率；在此基础上，叠加两层或者多层二维纳米间隙阵列可以得到新颖的三维立体化的纳米间隙阵列，具有更高的集成度和更强的等离子体共振性质，进而产生更为稳定清晰的拉曼信号，可以更好的运用到实际应用中。
摘要：一种具有拉曼增强性质的一维至三维纳米间隙阵列及其制备方法，属于材料科学领域。本方法涉及到纳米切割技术、物理气相沉积技术以及一些光刻和刻蚀方面的技术。整个过程操作简便，过程低耗清洁，可控性高。通过控制沉积间隔层的厚度，可以制备一系列不同尺寸的一维纳米间隙。结合光刻技术，可以制备具有高集成性的二维纳米间隙阵列，提高器件的制备效率；在此基础上，叠加两层或者多层二维纳米间隙阵列可以得到新颖的三维立体化的纳米间隙阵列，具有更高的集成度和更强的等离子体共振性质，进而产生更为稳定清晰的拉曼信号，可以更好的运用到实际应用中。
