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[00280977]一种光催化材料的制备方法

交易价格: 面议

所属行业: 纳米及超细材料

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:CN201610328711.0

交易方式: 技术转让 技术转让 技术入股

联系人: 昆明理工大学

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所在地:云南昆明市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述
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技术详细介绍

本发明公开一种光催化材料的制备方法,属于功能材料技术领域。本发明所述方法通过溶胶凝胶法制备纳米TiO2,并且掺杂Co(NO3)2*6H2O以及硅藻土,主要原理是掺杂Co(NO3)2*6H2O可以降低TiO2的晶粒尺寸,提高其分散性,并且降低禁带宽度,提高光吸收边长,从而提高光催化性。而同时掺杂硅藻土的目的是因为,硅藻土是大孔结构,TiO2会吸附在硅藻土的孔径上,从而增加了比表面积,进而获得更优良的吸光度。本发明所述方法制备得到的光催化材料具有很低的禁带宽度,很高的光吸收带边,很好的光响应范围,其光生电子空穴对复合率低,光生电子利用率高,制备工艺简单,所需设备较少,成本较低,并且制备出的TiO2粉体性能稳定,在光催化方面具有广阔的应用前景。
本发明公开一种光催化材料的制备方法,属于功能材料技术领域。本发明所述方法通过溶胶凝胶法制备纳米TiO2,并且掺杂Co(NO3)2*6H2O以及硅藻土,主要原理是掺杂Co(NO3)2*6H2O可以降低TiO2的晶粒尺寸,提高其分散性,并且降低禁带宽度,提高光吸收边长,从而提高光催化性。而同时掺杂硅藻土的目的是因为,硅藻土是大孔结构,TiO2会吸附在硅藻土的孔径上,从而增加了比表面积,进而获得更优良的吸光度。本发明所述方法制备得到的光催化材料具有很低的禁带宽度,很高的光吸收带边,很好的光响应范围,其光生电子空穴对复合率低,光生电子利用率高,制备工艺简单,所需设备较少,成本较低,并且制备出的TiO2粉体性能稳定,在光催化方面具有广阔的应用前景。

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