[00278493]共沉淀法低温制备石墨烯-SnIn4S8纳米复合光催化剂的方法
交易价格：
面议
所属行业：
化工生产
类型：
发明专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN201510066028.X
交易方式：
技术转让
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技术入股
联系人：
南昌航空大学
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所在地：江西南昌市
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资料保密
对所交付的所有资料进行保密
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技术详细介绍
摘要：本发明涉及一种共沉淀法低温制备石墨烯-SnIn4S8纳米复合光催化剂的方法，其特征在于：首先用改性的Hummers法制备出氧化石墨烯，然后用80%的水合肼将氧化石墨烯还原，得到还原氧化石墨烯；然后以氯化锡，氯化铟和硫代乙酰胺作为原料，将它们溶解到有机醇溶液中，同时加入提前制备好的还原氧化石墨烯，低温共沉淀法得到了以化学键结合的石墨烯-SnIn4S8纳米复合光催化剂。本发明的特点是反应温度低、反应时间短，同时制备的石墨烯-SnIn4S8纳米复合光催化剂具有较大的比表面积，禁带宽度窄，能有效地使光生电子-空穴分离，有着较高的稳定性、再生性能好，在可见光下有较强的光吸收和光催化活性。
摘要：本发明涉及一种共沉淀法低温制备石墨烯-SnIn4S8纳米复合光催化剂的方法，其特征在于：首先用改性的Hummers法制备出氧化石墨烯，然后用80%的水合肼将氧化石墨烯还原，得到还原氧化石墨烯；然后以氯化锡，氯化铟和硫代乙酰胺作为原料，将它们溶解到有机醇溶液中，同时加入提前制备好的还原氧化石墨烯，低温共沉淀法得到了以化学键结合的石墨烯-SnIn4S8纳米复合光催化剂。本发明的特点是反应温度低、反应时间短，同时制备的石墨烯-SnIn4S8纳米复合光催化剂具有较大的比表面积，禁带宽度窄，能有效地使光生电子-空穴分离，有着较高的稳定性、再生性能好，在可见光下有较强的光吸收和光催化活性。
