[00261961]一种808nm激发、Li+掺杂KGdF4：Nd3+纳米发光材料及其制备方法
交易价格：
面议
所属行业：
其他化学化工
类型：
发明专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN201710210371.6
交易方式：
技术转让
技术转让
技术入股
联系人：
武汉理工大学
进入空间
所在地：湖北武汉市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
摘要：本发明公开了一种808nm、Li+掺杂KGdF4Nd3+纳米发光材料，其化学式为K1‑xLixGdF4Nd3+，0≤x≤100％。本发明通过油酸盐路径法制备得到不同浓度Li+掺杂KGdF4Nd3+纳米发光材料，该材料具有高度分散、大小均一、物相纯度高等优点，整个制备工艺简单易操作，大大降低了多色发光材料的制备成本，并且制备过程绿色环保，特别适合批量生产。该材料表面包裹有一层油酸，与乙醇有较高亲和力，利于分散和进一步表面改性，在808nm半导体激光器的激励下显著增强了Nd3+的发光强度，使其在固体激光器、太阳能电池、红外辐射探测和生物医学成像等领域具有较大的潜在应用价值。
摘要：本发明公开了一种808nm、Li+掺杂KGdF4Nd3+纳米发光材料，其化学式为K1‑xLixGdF4Nd3+，0≤x≤100％。本发明通过油酸盐路径法制备得到不同浓度Li+掺杂KGdF4Nd3+纳米发光材料，该材料具有高度分散、大小均一、物相纯度高等优点，整个制备工艺简单易操作，大大降低了多色发光材料的制备成本，并且制备过程绿色环保，特别适合批量生产。该材料表面包裹有一层油酸，与乙醇有较高亲和力，利于分散和进一步表面改性，在808nm半导体激光器的激励下显著增强了Nd3+的发光强度，使其在固体激光器、太阳能电池、红外辐射探测和生物医学成像等领域具有较大的潜在应用价值。
