[00260135]一种采用原位磁场来调控原子层沉积薄膜磁性的方法
交易价格：
面议
所属行业：
化工生产
类型：
发明专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN201710405411.2
交易方式：
技术转让
技术转让
技术入股
联系人：
西安交通大学
进入空间
所在地：陕西西安市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
本发明公开了一种采用原位磁场来调控原子层沉积薄膜磁性的方法，目的在于，制备的Fe3O4薄膜的磁各向异性明显，具有更高的矫埦场，且Fe3O4薄膜表面形貌均匀，粗超度小，所采用的技术方案为，包括1)将洁净的基片放置在永磁体的磁极上，并将基片和永磁体置于真空反应腔体中加热备用，且加热温度小于永磁体的居里温度；2)以二茂铁蒸汽作为铁源，以氧气作为氧源，将二茂铁蒸汽和氧气交替脉冲送入真空反应腔体中，对基片进行若干次原子层沉积循环，直至基片的表面上均匀沉积有保形的Fe3O4薄膜；3)向真空反应腔体中充入惰性气体，待基片自然冷却至室温后取出。
本发明公开了一种采用原位磁场来调控原子层沉积薄膜磁性的方法，目的在于，制备的Fe3O4薄膜的磁各向异性明显，具有更高的矫埦场，且Fe3O4薄膜表面形貌均匀，粗超度小，所采用的技术方案为，包括1)将洁净的基片放置在永磁体的磁极上，并将基片和永磁体置于真空反应腔体中加热备用，且加热温度小于永磁体的居里温度；2)以二茂铁蒸汽作为铁源，以氧气作为氧源，将二茂铁蒸汽和氧气交替脉冲送入真空反应腔体中，对基片进行若干次原子层沉积循环，直至基片的表面上均匀沉积有保形的Fe3O4薄膜；3)向真空反应腔体中充入惰性气体，待基片自然冷却至室温后取出。
