[00257477]一种具有单原子厚度的单层g-C3N4纳米材料的制备方法
交易价格：
面议
所属行业：
无机非金属材料
类型：
发明专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN201410082698.6
交易方式：
技术转让
技术转让
技术入股
联系人：
西北大学
进入空间
所在地：陕西西安市
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- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
摘要：本发明公开了一种具有单原子厚度的单层g-C3N4光催化材料的制备方法：步骤1：室温下，将块状g-C3N4研磨至粉状，加入到酸溶液或者碱溶液中，搅拌均匀后静置；步骤2：将步骤1所得溶液再次搅拌均匀后进行超声处理，待沉淀完全后去上清液，用去离子水冲洗pH至6～8；烘干并研磨，加入到有机溶剂中再次进行超声处理，待沉淀完全后去上清液；步骤3：将步骤2得到的g-C3N4用无水乙醇离心洗涤，即得到单层的g-C3N4。本发明制备工艺简单，重复性好，制备速度快。氙灯照射下，此光催化材料分解水制氢效率高，降解有机染料效果明显。本发明为g-C3N4光催化材料的制备及应用提供了新思路，拓宽了光催化材料的研究范围。
摘要：本发明公开了一种具有单原子厚度的单层g-C3N4光催化材料的制备方法：步骤1：室温下，将块状g-C3N4研磨至粉状，加入到酸溶液或者碱溶液中，搅拌均匀后静置；步骤2：将步骤1所得溶液再次搅拌均匀后进行超声处理，待沉淀完全后去上清液，用去离子水冲洗pH至6～8；烘干并研磨，加入到有机溶剂中再次进行超声处理，待沉淀完全后去上清液；步骤3：将步骤2得到的g-C3N4用无水乙醇离心洗涤，即得到单层的g-C3N4。本发明制备工艺简单，重复性好，制备速度快。氙灯照射下，此光催化材料分解水制氢效率高，降解有机染料效果明显。本发明为g-C3N4光催化材料的制备及应用提供了新思路，拓宽了光催化材料的研究范围。
