[00242446]消除光学玻璃亚表面裂纹的方法
交易价格：
面议
所属行业：
雕刻切割
类型：
发明专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN201510660864.0
交易方式：
技术转让
技术转让
技术入股
联系人：
中国建筑材料科学研究总院
进入空间
所在地：北京北京市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
摘要：本发明公开了一种消除光学玻璃亚表面裂纹的方法，消除光学玻璃亚表面裂纹的方法包括表面预处理用体积浓度为5‑10％的氢氟酸溶液浸泡除去表面杂质；然后对所述光学玻璃进行双面抛光采用双面抛光机对所述光学玻璃进行双面抛光1‑3h，抛光浆料经过滤后循环使用，所述抛光浆料pH值为8‑12，其包括非离子表面活性剂A和混合溶液B，所述混合溶液B包括硅溶胶、pH调节剂和乙二胺四甲叉磷酸钠；所述硅溶胶中含有的SiO2颗粒质量占所述硅溶胶总质量的20‑40％，所述SiO2颗粒的平均粒径为15‑30nm，所述乙二胺四甲叉磷酸钠的质量为所述抛光浆料质量的0.01‑0.06％，所述非离子表面活性剂A与混合溶液B的体积比为298‑595。
摘要：本发明公开了一种消除光学玻璃亚表面裂纹的方法，消除光学玻璃亚表面裂纹的方法包括表面预处理用体积浓度为5‑10％的氢氟酸溶液浸泡除去表面杂质；然后对所述光学玻璃进行双面抛光采用双面抛光机对所述光学玻璃进行双面抛光1‑3h，抛光浆料经过滤后循环使用，所述抛光浆料pH值为8‑12，其包括非离子表面活性剂A和混合溶液B，所述混合溶液B包括硅溶胶、pH调节剂和乙二胺四甲叉磷酸钠；所述硅溶胶中含有的SiO2颗粒质量占所述硅溶胶总质量的20‑40％，所述SiO2颗粒的平均粒径为15‑30nm，所述乙二胺四甲叉磷酸钠的质量为所述抛光浆料质量的0.01‑0.06％，所述非离子表面活性剂A与混合溶液B的体积比为298‑595。
