[00242264]一种平行光微光斑光学关键尺寸分析装置及检测方法
交易价格：
面议
所属行业：
检测仪器
类型：
发明专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN201610289406.5
交易方式：
技术转让
技术转让
技术入股
联系人：
中国科学院海西研究院
进入空间
所在地：福建福州市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
摘要：本申请公开了一种平行光微光斑光学关键尺寸检测方法，采用该检测方法，能够分析微电子结构中垂直侧壁结构与非垂直侧壁结构。该检测方法先通过光谱仪检测到样品的关注参数曲线，再通过建立样品结构光栅周期、占空比、光栅厚度等关键尺寸信息的微电子周期结构物理模型，模拟计算出样品的零级衍射率曲线，并将模拟所得零级衍射率曲线与光谱仪检测到的零级衍射率曲线拟合分析，最终反演出待测微电子周期结构的关键尺寸。本申请公开了一种用于上述方法的检测装置，该装置能够检测分析微电子结构中垂直侧壁结构与非垂直侧壁结构，且对非垂直侧壁结构检测分析速度快。该方法及装置能够对非垂直侧壁结构进行快速检测分析。
摘要：本申请公开了一种平行光微光斑光学关键尺寸检测方法，采用该检测方法，能够分析微电子结构中垂直侧壁结构与非垂直侧壁结构。该检测方法先通过光谱仪检测到样品的关注参数曲线，再通过建立样品结构光栅周期、占空比、光栅厚度等关键尺寸信息的微电子周期结构物理模型，模拟计算出样品的零级衍射率曲线，并将模拟所得零级衍射率曲线与光谱仪检测到的零级衍射率曲线拟合分析，最终反演出待测微电子周期结构的关键尺寸。本申请公开了一种用于上述方法的检测装置，该装置能够检测分析微电子结构中垂直侧壁结构与非垂直侧壁结构，且对非垂直侧壁结构检测分析速度快。该方法及装置能够对非垂直侧壁结构进行快速检测分析。
