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[01920568]一种对小角度变化超敏感的薄膜及其制备方法和应用

交易价格: 面议

所属行业:

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:CN202110975790.5

交易方式: 技术转让

联系人:

所在地:内蒙古自治区呼和浩特市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述
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技术详细介绍

本发明涉及角度敏感膜制备技术领域,公开了一种对小角度变化超敏感的薄膜及其制备方法和应用。所述薄膜为特征尺寸7.16nm的Ni-(0.8)Fe-(0.2)合金团簇组装而成。该薄膜具有极度敏感的角度依赖行为,使其在高精度探测仪器的制备当中具有很好的应用前景。且该薄膜对角度的敏感呈现在电阻形状和数值变化两个方面,从而使搭载的设备更加安全可靠。
本发明涉及角度敏感膜制备技术领域,公开了一种对小角度变化超敏感的薄膜及其制备方法和应用。所述薄膜为特征尺寸7.16nm的Ni-(0.8)Fe-(0.2)合金团簇组装而成。该薄膜具有极度敏感的角度依赖行为,使其在高精度探测仪器的制备当中具有很好的应用前景。且该薄膜对角度的敏感呈现在电阻形状和数值变化两个方面,从而使搭载的设备更加安全可靠。

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