[01918324]超精密化学机械抛光技术及配套高端抛光浆料
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技术详细介绍
一、项目简介
利用自制超精细纳米抛光浆料，结合极限光学制造化学机械抛光技术，通过氧缺陷活化断裂 Si-O-Si 键，实现低损伤、亚埃级超光滑石英光学表面的加工。化学机械抛光研磨颗粒平均粒径 2~8 nm，粒度分布 (D90-D10)/(2D50 )<0.4；已在大口径（300 mm）石英光学元件表面加工中应用， 元件表面粗糙度低于 0.1 nm（亚埃级）、激光损伤阈值高于 30J/cm2、面型精度 PV 值优于 0.1 λ @632.8 nm。技术指标优于现有国际产品。
二、潜在应用领域：超光滑石英光学工件加工。
三、其他技术成熟度：4 级
四、先进程度：国际领先
五、合作方式：技术转让、许可使用、合作开发等
六、投资规模：2000-2500 万元