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技术详细介绍
微波电子回旋共振化学气相淀积(ECRCVD)技术是利用电子在微波和磁场中的回旋共振效应，在真空条件下形成高密度、高活性的等离子体进行气相化学反应，在低温下形成优质薄膜的技术。该项目通过独创性的稀土永磁、大面积、分布式ECR等离子体源技术，吸取国际上先进的研究结果，采用先进的、标准化、高性能的配置，研制出具有自主知识产权的、立足国内条件的新型微电子专用工艺设备。设备能完成 SiO2、SiN、SiON等优质薄膜的低温淀积，满足器件和集成电路表面钝化、多层金属化层间介质和介质隔离工艺的需要，在VLSI工艺线中具有重要的作用。