[01522761]一种空间任意弯曲光束产生器的结构与制备方法
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面议
所属行业:
光学仪器
类型:
非专利
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技术详细介绍
本发明涉及特殊光场调控技术,具体涉及一种空间任意弯曲光束产生器的结构与制备方法。所述结构为金属矩形块、二氧化硅、金属、二氧化硅的四层结构,所述四层结构的基底层为二氧化硅,基底层上蒸镀金属膜,金属膜上有两条缝隙,金属膜上面蒸镀二氧化硅膜,二氧化硅膜上表面有非周期金属矩形块;本发明的结构通过甩负胶,曝光、显影、定影,垂直蒸镀金属,垂直蒸镀二氧化硅,除胶,甩正胶,再次曝光、显影、定影,再次垂直蒸镀金属和再次除胶制备得到。本发明制备结构能够形成空间任意弯曲光束,且本发明的方法避免了在金属表面刻凹槽,实验设备要求相对低,易于重复使用。
本发明涉及特殊光场调控技术,具体涉及一种空间任意弯曲光束产生器的结构与制备方法。所述结构为金属矩形块、二氧化硅、金属、二氧化硅的四层结构,所述四层结构的基底层为二氧化硅,基底层上蒸镀金属膜,金属膜上有两条缝隙,金属膜上面蒸镀二氧化硅膜,二氧化硅膜上表面有非周期金属矩形块;本发明的结构通过甩负胶,曝光、显影、定影,垂直蒸镀金属,垂直蒸镀二氧化硅,除胶,甩正胶,再次曝光、显影、定影,再次垂直蒸镀金属和再次除胶制备得到。本发明制备结构能够形成空间任意弯曲光束,且本发明的方法避免了在金属表面刻凹槽,实验设备要求相对低,易于重复使用。