技术详细介绍
成果研究领域/方向：属于材料表面处理、功能薄膜制备及半导体材料掺杂
成果简介：多弧离子镀主要用于器件的表面强化处理，用于提高器件的表面耐磨性、耐蚀性，以及装饰等。膜层主要有TiN、TiAlN、CrN等硬质膜。离子束表面改性主要采用离子溅射即离子注入的方法对材料进行精细加工和表面性能改善，主要 有TiN、TiAlN、CrN等。掺杂离子以N离子掺杂为主。
成果研究领域/方向：属于材料表面处理、功能薄膜制备及半导体材料掺杂
成果简介：多弧离子镀主要用于器件的表面强化处理，用于提高器件的表面耐磨性、耐蚀性，以及装饰等。膜层主要有TiN、TiAlN、CrN等硬质膜。离子束表面改性主要采用离子溅射即离子注入的方法对材料进行精细加工和表面性能改善，主要 有TiN、TiAlN、CrN等。掺杂离子以N离子掺杂为主。