[00137679]一种POSS改性高阻隔三层共挤包装薄膜及其制备方法
交易价格：
面议
所属行业：
高分子材料
类型：
发明专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN201010502646
交易方式：
技术转让
联系人：
戴李宗
进入空间
所在地：福建厦门市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
一种POSS改性高阻隔三层共挤包装薄膜及其制备方法,涉及一种包装薄膜。提供一种具有阻隔性能、力学性能、耐热性能和透明性较好的多面体低聚倍半硅氧烷改性高阻隔三层共挤包装薄膜及其制备方法。薄膜包括外、中、里三层,外层薄膜组份为低密度聚乙烯、线型低密度聚乙烯和多面体低聚倍半硅氧烷改性剂,中层薄膜组份为乙烯-乙烯醇共聚物和增容树脂,里层薄膜组份为LDPE、LLDPE和开口剂。先制备多面体低聚倍半硅氧烷改性剂,再制备含多面体低聚倍半硅氧烷改性剂的外层薄膜母粒,最后制备多面体低聚倍半硅氧烷改性高阻隔三层共挤包装薄膜。
一种POSS改性高阻隔三层共挤包装薄膜及其制备方法,涉及一种包装薄膜。提供一种具有阻隔性能、力学性能、耐热性能和透明性较好的多面体低聚倍半硅氧烷改性高阻隔三层共挤包装薄膜及其制备方法。薄膜包括外、中、里三层,外层薄膜组份为低密度聚乙烯、线型低密度聚乙烯和多面体低聚倍半硅氧烷改性剂,中层薄膜组份为乙烯-乙烯醇共聚物和增容树脂,里层薄膜组份为LDPE、LLDPE和开口剂。先制备多面体低聚倍半硅氧烷改性剂,再制备含多面体低聚倍半硅氧烷改性剂的外层薄膜母粒,最后制备多面体低聚倍半硅氧烷改性高阻隔三层共挤包装薄膜。
