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[00111551]半导体异质结及其发光晶体管

交易价格: 面议

所属行业: 电子元器件

类型: 专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:CN200710026964.3

交易方式: 技术转让

联系人: 华南师范大学

进入空间

所在地:广东广州市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述
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技术详细介绍

  本发明公开了一种半导体异质结及其发光晶体管。半导体异质结包括宽带隙的n+型掺杂的电子发射区层、窄带隙的n-型掺杂层、有源层,所述窄带隙的n-型掺杂层通过突变异质结接触生长在宽带隙的n+型掺杂的电子发射区层上,所述有源层渐变生长在n-型掺杂层上,在n-型掺杂层/n+型掺杂层形成突变同型异质结,在靠近n-型轻掺杂的结区一侧形成一个量子阱,n+型一侧形成势垒。在半导体异质结的n-型掺杂层上再生长有源层、p型掺杂层,然后再制作n+型电极、n-型电极、p型电极即得到发光晶体管。上述基于半导体异质结的发光晶体管,通过改变施加在n-型掺杂层的电压可以控制电子的通过和截止,从而可以控制发光晶体管的发光强度。
  本发明公开了一种半导体异质结及其发光晶体管。半导体异质结包括宽带隙的n+型掺杂的电子发射区层、窄带隙的n-型掺杂层、有源层,所述窄带隙的n-型掺杂层通过突变异质结接触生长在宽带隙的n+型掺杂的电子发射区层上,所述有源层渐变生长在n-型掺杂层上,在n-型掺杂层/n+型掺杂层形成突变同型异质结,在靠近n-型轻掺杂的结区一侧形成一个量子阱,n+型一侧形成势垒。在半导体异质结的n-型掺杂层上再生长有源层、p型掺杂层,然后再制作n+型电极、n-型电极、p型电极即得到发光晶体管。上述基于半导体异质结的发光晶体管,通过改变施加在n-型掺杂层的电压可以控制电子的通过和截止,从而可以控制发光晶体管的发光强度。

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