[00110719]等离子体处理装置和等离子体处理方法
交易价格：
面议
所属行业：
微电子
类型：
专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：200710093621.9
交易方式：
技术转让
联系人：
东北大学
进入空间
所在地：辽宁沈阳市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
本发明提供一种微波等离子体处理装置(100),使通过多个缝隙(37)的微波透过由梁(26)所支撑的多枚电介质零件(31),利用透过的微波使气体等 离子体化,对基板G进行等离子体处理。支撑电介质零件(31)的梁(26)向着基板侧突出设置并使其端部周围的等离子体电子密度NE在临界等离子体电子密度NC以上。通过该梁(26)的突出,能够抑制因透过相邻电介质零件(31)的微波电场能所生成的表面波所引起的干涉和当相邻电介质零件(31)下方的等离子体干涉扩散时在等离子体中传播并到达相邻等离子体的电子和离子的干涉。
本发明提供一种微波等离子体处理装置(100),使通过多个缝隙(37)的微波透过由梁(26)所支撑的多枚电介质零件(31),利用透过的微波使气体等 离子体化,对基板G进行等离子体处理。支撑电介质零件(31)的梁(26)向着基板侧突出设置并使其端部周围的等离子体电子密度NE在临界等离子体电子密度NC以上。通过该梁(26)的突出,能够抑制因透过相邻电介质零件(31)的微波电场能所生成的表面波所引起的干涉和当相邻电介质零件(31)下方的等离子体干涉扩散时在等离子体中传播并到达相邻等离子体的电子和离子的干涉。
