技术详细介绍
技术投资分析：
主要内容：
TDR(L)—J60型光学晶体生长设备是在高真空、保护气体条件下以石墨电阻或以中频感应加热方法将原材料熔化，用直拉法生长红宝石、蓝宝石、YAG、化学计量比铌酸锂等光学晶体的设备。
技术水平：
TDR(L)—J60型光学晶体生长设备具有稳定可靠的低速运动性能、程序控制工作速度的变化功能、上称重计算机自动控制直径功能或下称重计算机自动控制直径功能，综合性能达到了国际先进国内领先水平，具有自主的知识产权。
主要技术参数:
1．熔料量： 10kg；
2．晶体直径： 3"；
3．加热功率 30kW；
4．最高加热温度 2100℃；
5．主炉室尺寸 φ600×900mm；
6．冷炉极限真空度 3Pa；
7．充气压力 0.08MPa。
技术的应用领域前景分析：
市场前景:
目前，国内市场上已有20多台TDR(L)-J60型光学晶体生长设备，在光学晶体材料领域发挥着重要作用。
随着光显示（LED,TFT,PDP）、光存储（磁盘和光盘）、超高亮半导体照明技术的飞速发展，对高质量的光学晶体材料的需求越来越迫切，需求量越来越大，并向大直径方向发展，目前，市场对2"～3"的高质量光学晶体有较大的需求量。预计近几年市场对该类光学晶体生长设备的需求量回大增。
效益分析：
本技术市场应用范围广，利润丰厚，效益十分可观。
厂房条件建议：
无
备注：
服务方式：
出售产品、其它形式的合作面议。