[01084763]1cm^2效率为12%CIGS太阳能薄膜电池与技术
                
                    
                        交易价格:
                        
                            面议
                        
                    
                    
                        所属行业:
                                                
                            电池充电器
                        
                        
                    
                    
                        类型:
                        非专利
                    
                    
                    
                    
                        交易方式:
                                                资料待完善
                        
                    
                    
                 
                
                    
                                        
                        联系人:
                    
                    
                    
                                        所在地:
                    
                    
                        - 服务承诺
- 产权明晰
- 
                            资料保密
                             对所交付的所有资料进行保密  
- 如实描述
 
             
            
            
         
        
            
                
技术详细介绍
            
            铜铟镓硒(CIGS)太阳能薄膜电池是以普通钠钙玻璃为衬底,磁控溅射法沉积1mm厚的Mo层作为电池底电极,用真空多源三步共蒸发工艺沉积CIGS化合物半导体薄膜,生长厚度大约2mm;第一步蒸发90% 左右的In和Ga,蒸发时间大约控制在15~20分钟,衬底温度为350℃;第二步蒸Cu的时间约25~30分钟内,衬底温度为540℃;第三步蒸发剩余10%的In和Ga,蒸发时间为5分钟,衬底温度仍保持在540℃左右;整个蒸发过程一直在Se氛中进行,Se源温度为200℃左右。薄膜电池缓冲层CdS采用化学水浴法(CBD)制备,厚度约50nm;窗口材料为双层ZnO膜,第一层为高阻本征层,用中频磁控溅射纯ZnO靶制成,第二层为低阻导电层,直流磁控溅射ZnO:Al靶制成,其厚度分别为80nm和800nm左右;最后用掩模板真空蒸发Ni/Al栅电极,形成结构为:玻璃/Mo/CIGS/n-CdS/n-ZnO/n+-ZnO:Al/Al的薄膜电池,1×1cm^2电池转换效率为12.1%,Voc=582mV,Jsc=32.5mA/cm^2,FF=0.64。
            
                铜铟镓硒(CIGS)太阳能薄膜电池是以普通钠钙玻璃为衬底,磁控溅射法沉积1mm厚的Mo层作为电池底电极,用真空多源三步共蒸发工艺沉积CIGS化合物半导体薄膜,生长厚度大约2mm;第一步蒸发90% 左右的In和Ga,蒸发时间大约控制在15~20分钟,衬底温度为350℃;第二步蒸Cu的时间约25~30分钟内,衬底温度为540℃;第三步蒸发剩余10%的In和Ga,蒸发时间为5分钟,衬底温度仍保持在540℃左右;整个蒸发过程一直在Se氛中进行,Se源温度为200℃左右。薄膜电池缓冲层CdS采用化学水浴法(CBD)制备,厚度约50nm;窗口材料为双层ZnO膜,第一层为高阻本征层,用中频磁控溅射纯ZnO靶制成,第二层为低阻导电层,直流磁控溅射ZnO:Al靶制成,其厚度分别为80nm和800nm左右;最后用掩模板真空蒸发Ni/Al栅电极,形成结构为:玻璃/Mo/CIGS/n-CdS/n-ZnO/n+-ZnO:Al/Al的薄膜电池,1×1cm^2电池转换效率为12.1%,Voc=582mV,Jsc=32.5mA/cm^2,FF=0.64。